Uwe Mühle, Jan Sickmann, and Lutz Hillmann (2009). Focused Ion Beam (FIB)-basierte Zielpräparation an Transistoren der 70 nm-Generation zur Elektronenholographie. Practical Metallography: Vol. 46, No. 10, pp. 509-520. doi: 10.3139/147.110067 © Carl Hanser Verlag GmbH & Co. KG ISSN 0032-678X