Plasmaerosionskrater, die durch elektrische Entladungen an der Oberfläche von Werkstoffen entstehen, sind wichtige Erscheinungsformen von Elektro-Erosionsprozessen, die zu einer Zerstörung der Elektroden führen können. Im Rahmen der vorliegenden Arbeit wurden elektrische Entladungen an der Oberfläche eines Ni/Cu-Mehrschichtsystems erzeugt. Mit Hilfe von Dual-Beam-Techniken, bei denen ein fokussierter Ionenstrahl (FIB) mit einem Rasterelektronen-mikroskop (REM) kombiniert wird, wurden nicht nur die Oberfläche der Krater, sondern auch da-runter liegende Mikrostrukturen analysiert. Durch Kombination von REM-, FIB-, TEM und STEM-EDX-(Rastertransmissionselektronenmikroskopie kombiniert mit energiedispersiver Röntgenanalyse) Methoden erfolgte eine umfassende dreidimensionale Untersuchung der Krater. Auf der Grundlage der in Abhängigkeit von der Tiefe festgestellten Mikrostrukturänderungen wurde der Wechselwirkungsbereich von Plasma und Werkstoff bestimmt.