Bei dem noch relativ neuen Verfahren PS-PVD (Plasma Spray – Physical Vapour Deposition) kann das Spritzpulver durch hohe Energiezufuhr und geringem Umgebungsdruck fast vollständig verdampft werden. Auf dem zu beschichtenden Substrat kondensiert das Spritzmaterial zu kolumnaren, federartig strukturierten Schichten wie man sie vom EB-PVD (Electron Beam – Physical Vapour Deposition) –Verfahren her kennt. Diese Schichtstrukturen sind für Anwendungen interessant bei denen hohe Dehnungstoleranzen gefordert sind, wie z.B. bei Wärmedämmschichten in Gasturbinen, wo es zu zyklischem Aufheizen und Abkühlen der Schichten kommt. Durch die hohe Schichtwachstumsrate kann PS-PVD eine kostengünstigere Alternative zu EB-PVD darstellen.

Der Hauptunterschied zu EB-PVD-Schichten besteht in der höheren Porosität der PS-PVD-Schichten. Diese höhere Porosität führt jedoch zu präparativen Schwierigkeiten bei der Charakterisierung der Schichten.

In dieser Veröffentlichung werden mittels PS-PVD hergestellte YSZ (Yttrium stabilisiertes Zirconiumdioxid) -Schichten hinsichtlich spezifischer Oberfläche, Dichte, Porenverteilung, Härte und Sinteraktivität charakterisiert und mit EB-PVD-Schichten verglichen.