58. Metallographie-Tagung 2024 - Materialographie
Poster
18.09.2024 (CEST)
Defektfreie Präparation von Wolframeinkristallen
KH

Katja Hunger

Max-Planck-Institut für Plasmaphysik

Hunger, K. (V)¹; Balden, M.²; Elgeti, S.²; Schwarz-Selinger, T.²
¹Max-Planck-Institut für Plasmaphysik, Garching bei München; ²Max-Planck-Isntitut für Plasmaphysik, Garching

In diesem Beitrag soll eine Möglichkeit einer defektfreien Präparation von W-Einkristallen vorgestellt werden. Der Schwerpunkt
liegt dabei auf der Endpolitur, die die Deformationsschicht (Beilby-Schicht) der
Vorpräparationsschritte vollständig entfernen muss. Weiterhin wird ein Augenmerk auf den Einfluss
der verschiedenen Kristallorientierungen bei der Präparation gelegt.  Wolfram ist ein sehr hartes
Metall und daher nicht leicht deformationsfrei zu präparieren. In vorangegangen Arbeiten wurden
bereits Präparationsmethoden für Wolfram-Polykristalle vorgestellt. Darüber hinaus wurde
bereits in einer Arbeit von 1976 dokumentiert, dass sich die Präparation von W-Einkristallen
durch deutlich längere Polierzeiten und kleinere Polierschritte von der Bearbeitung von W-
Polykristallen deutlich unterscheidet. Für das Feinschleifen und Polieren wurde daher auf diese
Grundlage aufgebaut und die Präparationsschritte an die heute verfügbaren Materialien und
Techniken angepasst.  Bei Versuchen zur Endpolitur, stellte sich schnell heraus, dass eine
Elektropolitur nicht in Frage kommt, da diese schwer kontrollierbar und schlecht reproduzierbar ist
und somit keine absolut defektfreie Oberfläche erreicht werden konnte. Im Gegensatz dazu
erbrachte die Vibrationspolitur mit kollodialem Siliziumoxid die gewünschte schadfreie Oberfläche.
Daher konzentrierten sich die weiteren Untersuchungen auf diese Methode der Endpolitur. Mithilfe
einer Kombination von Elektronenrückstreubeugungsmessungen am Rasterelektronenmikroskop und
Höhenmessungen am konfokalen Laserscanningmikroskop konnte der Einfluss der
Kristallorientierung auf die Abtragsgeschwindigkeit beim Vibrationspolieren mit kollodialem
Siliziumoxid untersucht und somit die Polierzeiten entsprechend angepasst werden. Während der
Studie wurden zahlreiche Einkristalle unterschiedlicher Kristallorientierungen präpariert und die
Oberflächenqualität mit dem Elektronenmikroskop dokumentiert.

Abstract

Abstract

Erwerben Sie einen Zugang, um dieses Dokument anzusehen.

Poster

Poster

Erwerben Sie einen Zugang, um dieses Dokument anzusehen.

Ähnliche Inhalte

© 2026