High Power Impulse Magnetron Sputtering ist ein Vakuumbeschichtungsverfahren, bei dem hochenergetische Impulse zur Abscheidung dünner Filme genutzt werden. Diese Methode ermöglicht die Erzeugung dichter, haftender Schichten mit kontrollierter Mikrostruktur und wird vor allem in der Herstellung von funktionalen Beschichtungen eingesetzt.