RF-Magnetron-Sputtern ist eine Beschichtungstechnik, bei der mittels Radiofrequenzplasma dünne Schichten auf Substrate abgeschieden werden. Das Verfahren ermöglicht eine präzise, gleichmäßige Filmabscheidung und wird vor allem in der Halbleiter- und Optikindustrie angewendet, um strukturelle Eigenschaften und funktionale Schichtparameter zu kontrollieren.