Sputterdeposition ist eine physikalische Verfahrenstechnik, bei der Atome durch Ionenbeschuss aus einer Target-Oberfläche herausgelöst und auf ein Substrat übertragen werden. Die Methode erzeugt dünne, gleichmäßige Schichten und findet breite Anwendung in der Elektronik, Beschichtungstechnik und der Entwicklung funktionaler Materialien.