ICP-MS/MS-Analyse kombiniert induktiv gekoppelte Plasmaionisation mit Tandem-Massenspektrometrie. Im Hochtemperaturplasma werden Elemente ionisiert und nacheinander in zwei Massenanalysatoren mit Kollision/Reaktionszelle getrennt. Dies erlaubt extrem niedrige Nachweisgrenzen, Isotopenanalytik und effektive Interferenzunterdrückung. In den Materialwissenschaften dient ICP-MS/MS zur Spuren- und Ultraspurenanalyse von Legierungselementen, Verunreinigungen und Korrosionsprodukten.