ICP‑MS/MS ist eine massenspektrometrische Methode mit induktiv gekoppeltem Plasma und Tandem‑Quadrupolen. Im Plasma werden Atome ionisiert, im ersten Quadrupol masseausgewählt, in einer Reaktions-/Kollisionszelle von Interferenzen befreit und im zweiten Quadrupol analysiert. In der Werkstoffwissenschaft ermöglicht sie extrem empfindliche Spuren‑ und Ultraspurenanalytik, Isotopenbestimmung und Verunreinigungsanalyse in Metallen, Halbleitern, Gläsern, Pulvern und Dünnschichten.