Ionenstrahlpolieren ist ein materialabtragendes Verfahren, bei dem eine fokussierte Ionenquelle (typisch Ar+) die Oberfläche sputtert. Es wird zur Herstellung glatter, artefaktfreier Querschliffe für Elektronenmikroskopie und Oberflächenanalytik eingesetzt. In der Werkstoffwissenschaft erlaubt es verzerrungsarme Präparation harter, spröder oder heterogener Materialien und die gezielte Entfernung beschädigter Schichten nach mechanischem Schleifen.