Pulslaserabscheidung

Pulslaserabscheidung ist ein physikalisches Gasphasenabscheideverfahren, bei dem kurze, hochenergetische Laserpulse Material aus einem Target abtragen und ein Plasma erzeugen, das sich auf einem Substrat als dünner Film niederschlägt. Es ermöglicht die nahezu stöchiometrische Übertragung komplexer Zusammensetzungen, hohe Abscheideraten und scharfe Grenzflächen. Eingesetzt wird es für funktionale Oxide, Supraleiter, Nitrid‑ und Oxidkeramiken sowie Multischichtsysteme.