Femtosekunden-Laserinterferenzmusterung

Bei der Femtosekunden-Laserinterferenzmusterung werden ultrakurze Laserpulse genutzt, um präzise Interferenzmuster auf Werkstoffoberflächen zu erzeugen. Dies führt zur Bildung von Mikro- und Nanostrukturen, welche gezielte Oberflächenmodifikationen mit hoher räumlicher Auflösung und minimaler thermischer Belastung ermöglichen.

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