Atomare Schichtabscheidung

Atomare Schichtabscheidung ist ein chemisches Gasphasenabscheidungsverfahren mit selbstlimitierenden, sequenziellen Oberflächenreaktionen. Durch alternierendes Einleiten von Precursoren werden monolagenweise dünne Schichten mit exzellenter Dickenkontrolle, Konformität und Homogenität auch in hochporösen oder strukturierten Substraten erzeugt. ALD wird für High‑k‑Dielektrika, Barriere‑ und Funktionsschichten in Mikroelektronik, Optik und Energiematerialien eingesetzt.