Atomare Schichtabscheidung (ALD) ist ein dünnfilmtechnologisches Verfahren, bei dem durch sukzessive, selbstlimitierende Reaktionen atomar präzise Schichten erzeugt werden. Dieses Verfahren spielt eine wichtige Rolle bei der Herstellung von Halbleitern, Sensoren und nanostrukturierten Oberflächen.
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