Die fokussierte Ionenstrahl-Probenpräparation nutzt einen konzentrierten Ionenstrahl zum Abtragen, Aufbringen oder Abbilden von Material. Diese präzise Methode ermöglicht eine ortsgenaue Querschnittsvorbereitung und Analyse auf Mikro- bis Nanometerskala und ist besonders in der Halbleiter- sowie Metallurgiecharakterisierung unverzichtbar.