ToF-SIMS (Time-of-Flight Sekundärionenmassenspektrometrie) ist eine oberflächenanalytische Methode, bei der ein Primärionenstrahl sekundäre Ionen von der Probe ablöst, deren Flugzeit zur massenspektrometrischen Analyse genutzt wird. Sie ermöglicht laterale und Tiefenabbildung der chemischen Zusammensetzung mit hoher Empfindlichkeit im Spurenbereich. In den Materialwissenschaften wird sie zur Analyse von Grenzflächen, Dünnschichten, Diffusionsprofilen und Kontaminationen eingesetzt.