Magnetfeldunterstützte CVD nutzt statische oder dynamische Magnetfelder während der chemischen Gasphasenabscheidung, um Transport, Plasmazustand oder Orientierung magnetisch oder diamagnetisch anisotroper Spezies zu beeinflussen. Dies kann Schichtmorphologie, Textur, Defektdichte und Abscheiderate verändern und erlaubt die gezielte Ausrichtung von Nanoröhren, dünnen Filmen oder Partikeln. Anwendungen liegen in Spintronik, Hartstoffschichten und funktionalen Nanokompositen.