Aktivbildschirmtechnik ist ein plasmagestütztes Oberflächenmodifikationsverfahren, bei dem ein aktivierter Schirm zwischen Plasmaquelle und Substrat angeordnet wird. Er steuert Ionenenergie, -fluss und chemische Reaktivität unabhängig von der Substratgeometrie. Dadurch lassen sich Nitrier- und Karbonisierungsprozesse, Diffusionsschichten, Spannungszustände, Härteprofile sowie Reib- und Korrosionseigenschaften von Metallen reproduzierbar einstellen.