fokussierter Ionenstrahl

Ein fokussierter Ionenstrahl ist ein eng gebündelter Ionenstrahl, meist Ga⁺ oder Plasmaquellen, der zur lokalen Materialabtragung, -deposition und Modifikation eingesetzt wird. In der Materialwissenschaft dient FIB zur Präparation von TEM-Lamellen, 3D-Tomographie, Mikro- und Nanostrukturierung sowie Fehler- und Defektanalyse. Durch Ionenbeschuss entstehen Sputtern, Implantation und amorphe Zonen, was bei der Interpretation von Mikrostrukturen und Eigenschaften berücksichtigt werden muss.