Die plasma-unterstützte Magnetronsputterung ist ein Beschichtungsverfahren, bei dem ein Plasmazustand genutzt wird, um Material von einem Target abzutragen und dünne Filme auf Substrate zu übertragen. Dieses Verfahren ermöglicht gleichmäßige Beschichtungen mit kontrollierter Struktur in Anwendungen wie Optik und Elektronik.