Pulsed DC Magnetronsputtern nutzt gepulsten Gleichstrom, um Material in Form von Ionen vom Target auf Substrate abzusetzen. Diese Technik erlaubt eine präzise Steuerung von Schichtdicken und -eigenschaften und ist daher in der Dünnschichttechnologie sowie bei der Herstellung funktionaler Beschichtungen von großer Bedeutung.