Direkte Laserinterferenzmusterung

Die Direkte Laserinterferenzmusterung ist ein innovatives Verfahren zur Erzeugung mikro- und nanostrukturierter Oberflächen. Durch Überlagerung von Laserstrahlen werden regelmäßige Muster erzeugt, die die Funktionalität von Materialien, z. B. in optischen und bioinspirierenden Anwendungen, verbessern können.

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