Mikrowelleninduziertes Plasma wird durch die Bestrahlung von Gasen mit Mikrowellenenergie erzeugt. Dieses Plasma führt zur Ionisation des Gases und bietet reaktive Spezies, die in der Materialbearbeitung, dünnfilmtechnischen Abscheidung und Oberflächenmodifikation eingesetzt werden, um gezielte Materialänderungen zu erzielen.