Gepulste Laserabscheidung ist ein physikalisches Gasphasenabscheidungsverfahren, bei dem kurze, energiereiche Laserpulse ein Target abtragen und ein Plasma erzeugen, dessen Spezies sich auf einem Substrat als Dünnfilm niederschlagen. Es ermöglicht die nahezu stöchiometrische Übertragung komplexer Oxide, Nitride und Multikomponentenwerkstoffe. Prozessparameter wie Laserfluenz, Pulsdauer, Umgebungsdruck und Substrattemperatur steuern Mikrostruktur, Dichte und Defektstruktur der Schicht.