Lecture
Klein, M. (Speaker)¹; Klein, T.¹; Lourenco das Neves, J.M.¹; Schwab, M.²; Stockinger, M.³
01.10.2026
MSE 2026
Plasmatechnologie nutzt ionisierte Gase zur Oberflächenmodifikation, Dünnschichtabscheidung und Ätzung. Verfahren wie PVD, PECVD, Plasmaoberflächenaktivierung oder Atmosphärendruckplasmen erzeugen reaktive Spezies, die chemische Bindungen verändern, Schichten growthen oder Kontamination entfernen. Anwendungen reichen von Korrosionsschutz über Haftvermittler bis zur Sterilisation und Mikrostrukturierung.
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