Ätzverfahren sind von entscheidender Bedeutung für die Charakterisierung, Quantifizierung und Klassifizierung von Mikrostrukturen, nicht nur in der Lichtmikroskopie, sondern zunehmend auch in der Rasterelektronenmikroskopie. In der industriellen Praxis bleiben Ätztechniken jedoch oft auf einige "einfache" Strukturätzungen beschränkt. Die Herausforderungen, die sich durch immer komplexere Mikrostrukturen in Verbindung mit immer engeren Toleranzen ergeben, bringen die bestehenden Standardätzverfahren an ihre Grenzen. Außerdem gibt es ein allgegenwärtiges Bestreben, kritische Chemikalien aus den Labors zu verbannen.

Mit ThEtching wird die Gefügekontrastierung nicht nur reproduzierbarer und objektiver, indem konstante Umgebungsbedingungen gewährleistet werden, sondern vor allem auch die In-situ-Beobachtung für das optimale Ätzergebnis möglich. Der zum Patent angemeldete Aufbau vereinfacht nicht nur den Ätzprozess, sondern ermöglicht auch die systematische Optimierung bestehender Ätzungen und die Entwicklung neuer, angepasster Kontraste.

Der Vortrag stellt neben den aktuellen Entwicklungen zum ThEtching insbesondere auch die Erweiterung zur elektrolytischen Kontrastierung dar.