Eine Methode zur Dünnschichtabscheidung, bei der ein fokussierter Elektronenstrahl ein festes Targetmaterial lokal erhitzt und verdampft. Das Verdampfte kondensiert in einer Vakuumkammer auf einem Substrat und bildet maßgeschneiderte, hochreine Schichten. Das Verfahren findet breite Anwendung in Halbleitertechnologien und optischen Systemen.