Ionenstrahlätzen ist ein Verfahren, bei dem gezielte Ionenbeschussmaterialien teilweise abgetragen werden, um dünne Filme oder veränderte Oberflächenstrukturen zu erzeugen. Diese Methode erlaubt die präzise Kontrolle über Schichtdicken und Oberflächenmodifikation und findet breiten Einsatz in der Halbleiter- und Beschichtungstechnik.