Deposition bezeichnet in der Materialwissenschaft und Werkstofftechnik das Aufbringen eines Materials auf eine Substratoberfläche, um eine dünne Schicht zu erzeugen. Dieser Prozess wird oft verwendet, um Materialien mit spezifischen Eigenschaften wie elektrischer Leitfähigkeit, Korrosionsbeständigkeit oder optischen Eigenschaften herzustellen.

Es gibt verschiedene Methoden der Deposition, die in der Industrie und Forschung weit verbreitet sind. Zu den wichtigsten gehören:

• Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD): In diesem Verfahren wird das Material in einer Vakuumkammer verdampft und kondensiert auf der Oberfläche des Substrats. Es wird häufig für die Herstellung von Halbleitern und Beschichtungen verwendet.
• Atomlagenabscheidung (ALD): Diese Methode basiert auf der chemischen Reaktion von Prekursormolekülen auf der Oberfläche des Substrats. Sie erlaubt die Ablagerung extrem dünner und gleichmäßiger Schichten.
• elektrochemische Abscheidung: Hierbei wird das Material durch die Anwendung eines elektrischen Potenzials auf ein leitfähiges Substrat elektrolytisch abgeschieden. Diese Methode wird oft zur Metallbeschichtung und für Batterien verwendet.
• Direkte Energiedeposition: Diese Technik nutzt Energiequellen wie Laser oder Elektronenstrahlen, um Materialien direkt auf ein Substrat zu deponieren. Sie wird häufig in der additiven Fertigung eingesetzt.

Die Wahl der Depositionstechnik hängt von verschiedenen Faktoren ab, darunter das Material, das Substrat, die gewünschte Schichtdicke und die spezifischen Anwendungen. Die Deposition findet Anwendung in vielen Bereichen, einschließlich der Elektronik, Optik, Luft- und Raumfahrt sowie der Medizintechnik.