Physikalische Dampfabscheidung

Physikalische Dampfabscheidung umfasst Vakuumverfahren wie Sputtern oder thermische Verdampfung, bei denen Material aus einer Quelle physikalisch freigesetzt, im Gasraum transportiert und als Dünnschicht auf Substraten kondensiert. Die Mikrostruktur (z. B. Dichte, Textur, Spannung) wird durch Energiespektrum der Teilchen, Druck, Substrattemperatur und Bias-Spannung gesteuert und ist für funktionale Schichten entscheidend.