Dünnfilmabscheidung umfasst physikalische und chemische Verfahren zur Erzeugung von Schichten im nm–µm-Bereich, etwa PVD, CVD, ALD und elektrochemische Methoden. Prozessparameter steuern Dicke, Dichte, Kristallstruktur, Textur, Zusammensetzung und Spannung. Dünnfilme ermöglichen funktionale Oberflächen für Mikroelektronik, Optik, Korrosions- und Verschleißschutz sowie Energiewandlung.