Die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) ist ein Verfahren zur Herstellung dünner Filme, bei dem gasförmige Vorläufer in kontrollierten Reaktionen zersetzt und auf Substraten abgeschieden werden. Dieses Verfahren ermöglicht die präzise Steuerung der Schichtdicke, Zusammensetzung und mikrostrukturellen Eigenschaften.
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