Dotierungsstrategien umfassen Methoden zur gezielten Einführung von Fremdatomen in ein Basismaterial, um dessen elektronische, optische oder mechanische Eigenschaften zu modifizieren. Durch kontrolliertes Dotieren lassen sich Defekte kompensieren, Leitfähigkeiten optimieren und spezifische Materialparameter anpassen. Diese Ansätze sind in der Halbleitertechnik und Materialforschung von zentraler Bedeutung.