Die Dotierung ist ein Verfahren in der Werkstofftechnik, bei dem kleine Mengen an Fremdatomen, sogenannten Dotierstoffen, in ein Basismaterial eingebracht werden, um dessen elektrische, optische oder mechanische Eigenschaften zu verändern. Diese Technik wird insbesondere in der Halbleiterindustrie häufig angewendet, um die Leitfähigkeit von Halbleitermaterialien wie Silizium zu steuern.

Ein klassisches Beispiel für eine Dotierung ist die Bor-Dotierung von Silizium, bei der Bor-Atome als Akzeptoren in das Siliziumgitter eingelagert werden, um ein p-Halbleitermaterial zu erzeugen. Andere bekannte Dotierstoffe sind Phosphor, Stickstoff (N-dotiert) und Arsen, die zur Erzeugung von n-Halbleitermaterialien genutzt werden.

Auch in anderen Materialien spielt die Dotierung eine wichtige Rolle. Zum Beispiel kann die MgO-Dotierung von Aluminiumoxid die Festigkeit und Korrosionsbeständigkeit des Materials verbessern. Dotierungen mit seltenen Erden, wie etwa Sm-Dotierung (Samarium), können die magnetischen Eigenschaften von Materialien signifikant beeinflussen.

Eine besondere Form der Dotierung ist die A-Seiten-Dotierung, bei der gezielt nur eine Seite oder ein Bereich des Materials dotiert wird, um eine kontrollierte inhomogene Verteilung der Dotierstoffe zu erzeugen. Diese Technik wird besonders zur Herstellung von speziellen elektronischen Bauelementen genutzt.

Zusammenfassend lässt sich sagen, dass die Dotierung eine essenzielle Technik in der Werkstofftechnik darstellt, um die Eigenschaften von Materialien gezielt zu modifizieren. Damit können sie auf spezielle Anforderungen in verschiedenen Anwendungen zugeschnitten werden.