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Dotierung von Werkstoffen

Bor-Dotierung

Bor-Dotierung bezeichnet die gezielte Einbringung von Bor in Kristallgitter, typischerweise von Halbleitern oder Hartstoffen, zur Modifikation elektrischer, mechanischer oder chemischer Eigenschaften. In Silizium erzeugt Bor p-leitende Zonen, in Diamant und Bornitrid beeinflusst es Härte und Leitfähigkeit. Diffusion, Löslichkeitsgrenzen und Aktivierung bestimmen das Dotierungsprofil.

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