Dünne kornwachstumsresistente Tantaldrähte werden zur Herstellung von elektrischen Tantalkondensatoren verwendet. Um den Herstellungsprozess zu optimieren, ist es wichtig, die Mikrostruktur von dotiertem Tantal nach unterschiedlichen Herstell- bzw. Wärmebehandlungsschritten zu untersuchen. Dies setzt jedoch voraus, dass eine geeignete artefaktfreie Präparationsmethode für dotiertes Tantal vorliegt, beziehungsweise die bestehenden Methoden verbessert werden. In der vorliegenden Arbeit werden optimierte Präparationsmethoden für licht- und rasterelektronenmikroskopische Untersuchungen vorgestellt. Neben der Beschreibung der Probenpräparation wird auch auf die wichtigsten Ergebnisse der anschließenden mikrostrukturellen Untersuchungen eingegangen.