Die thermische Rastersondenlithographie nutzt eine beheizte Sonde zur direkten Strukturierung von Materialien im Nanobereich. Durch die lokal begrenzte Erwärmung lassen sich Resistschichten oder Materialoberflächen präzise verändern, was hochauflösende Strukturen in Halbleiterelementen und nanostrukturierten Werkstoffen ermöglicht.