Nanoimprint Lithographie ist ein präzises Abformverfahren, das die Übertragung nanostrukturierter Muster in Polymer- oder Keramikschichten ermöglicht. Dieses kosteneffiziente und skalierbare Verfahren erlaubt die Herstellung feiner Strukturen, die in der Elektronik, Photonik und anderen Hightech-Bereichen Anwendung finden, und trägt so zur Weiterentwicklung moderner Materialtechnologien bei.