Laserinduzierte Plasmaätzung ist ein präziser Abtragsprozess, bei dem Laserstrahlung ein Plasma erzeugt, welches gezielt Material ätzt. Dieser Ansatz ermöglicht die Herstellung feiner Strukturen und gewährleistet hohe Oberflächenqualitäten, was in der Mikrostrukturierung und Halbleitertechnik von Vorteil ist.