Gleichstrom-Magnetron-Sputtern ist ein physikalisches Abscheidungsverfahren, bei dem durch Ionenbeschuss Material von einem Target gelöst und auf ein Substrat übertragen wird. Dieses Verfahren ermöglicht die Herstellung dünner, hochhomogener Schichten mit kontrollierbarer Struktur, weshalb es in der Mikroelektronik und optischen Beschichtungstechnik breit angewendet wird.