Die Ionenstrahlzerstäubungsabscheidung ist ein physikalisch-vapor-deposition Verfahren, bei dem hochenergetische Ionenstrahlen Atome aus einem Target herauslösen, die sich anschließend als Dünnschicht auf einem Substrat absetzen. Diese Methode ermöglicht eine präzise Kontrolle von Schichtdicke und Zusammensetzung.