MOCVD-Abscheidung (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) ist ein Verfahren zur Herstellung dünner Filme mittels gasphasiger Reaktionen von metallorganischen Verbindungen. Es ermöglicht die kontrollierte Aufbringung von hochreinen, gleichmäßigen Schichten, vor allem in der Halbleitertechnik und optoelektronischen Anwendungen.