Fused Silica Glas ist ein nahezu porenfreies, amorphes SiO₂‑Glas mit sehr geringer Verunreinigung, ausgezeichneter optischer Transparenz vom UV‑ bis IR‑Bereich, geringer thermischer Ausdehnung und hoher chemischer Beständigkeit. Es dient als Referenzwerkstoff für optische Komponenten, Lithographie, Präzisionsmessungen und als Substrat in Hochtemperatur‑ und Plasmatechnologien.