Epitaxie bezeichnet das kristalline Wachstum einer Schicht auf einem Substrat, wobei die Schichtorientierung durch das Substratgitter bestimmt wird. Sie ermöglicht die Herstellung hochgeordneter, defektarmer Dünnfilme mit definierter Textur und Zusammensetzung. In der Werkstoffwissenschaft ist sie zentral für Halbleiter-, Oxid- und Metallschichten mit maßgeschneiderten elektronischen und strukturellen Eigenschaften.