Die fokussierte Ionenstrahltechnologie (FIB) ist ein unverzichtbares Verfahren in der Werkstofftechnik zur präzisen Bearbeitung und Analyse von Materialproben. Bei der FIB-Technik wird ein eng fokussierter Ionenstrahl, meist bestehend aus Gallium-Ionen, auf das zu untersuchende Material gerichtet. Durch die gezielte Wechselwirkung der Ionen mit der Materialoberfläche können sehr feine Strukturen geschnitten, abgetragen oder modifiziert werden. Dies ermöglicht nicht nur die Erstellung detaillierter Querschnitte, sondern auch die präzise Nanobearbeitung, die für die Erforschung und Qualitätskontrolle moderner Werkstoffe von großer Bedeutung ist.

Ein besonderes Anwendungsfeld stellt der Zweistrahl-FIB dar, bei dem ein zusätzlicher Rasterelektronenstrahl (SEM) parallel eingesetzt wird. Diese Kombination erlaubt es, die Bearbeitung in Echtzeit zu überwachen und dadurch äußerst genaue Anpassungen vorzunehmen. Neben der Probenpräparation für die Transmissionselektronenmikroskopie (TEM) findet die FIB-Technik breite Anwendung in der Halbleiterindustrie, um Mikroschäden zu lokalisieren und zu beheben sowie innovative Nanostrukturen zu entwickeln. Insgesamt stellt die FIB-Technik ein leistungsfähiges Werkzeug dar, das sowohl in der Grundlagenforschung als auch in der industriellen Produktion eine zentrale Rolle spielt.