Die induktiv gekoppelte Plasma-Massenspektrometrie kombiniert ein argonbasiertes Hochfrequenzplasma zur Atomisierung und Ionisation mit einem Massenspektrometer zur Trennung nach Masse-zu-Ladung-Verhältnis. In der Werkstoffwissenschaft ermöglicht sie multielementare Spurenanalyse, Isotopenbestimmung und Reinheitskontrolle von Metallen, Keramiken und dünnen Schichten. Hohe Empfindlichkeit, breiter Dynamikbereich und geringe Nachweisgrenzen sind charakteristisch.
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