Scatterometrie ist ein optisches Messverfahren, bei dem die winkel- und/oder wellenlängenabhängige Streuung von Licht an periodischen oder rauen Oberflächen analysiert wird, um Strukturparameter wie Periodizität, Höhe, Seitenwandwinkel oder Rauheit zu rekonstruieren. In den Materialwissenschaften wird sie zur zerstörungsfreien Charakterisierung von Dünnschichten, Nanostrukturen und Lithographiemasken eingesetzt und häufig mit rigorosen elektromagnetischen Simulationen (Rigorous Coupled-Wave Analysis, FDTD) ausgewertet.