Direktes Laser-Interferenz-Musterung (DLIP) nutzt die Interferenz mehrerer kohärenter Laserstrahlen, um periodische Intensitätsmuster auf Oberflächen zu erzeugen. Lokales Schmelzen, Ablation oder Photopolymerisation formt Mikro- und Nanostrukturen mit Gitterperioden im Submikrometerbereich. DLIP ermöglicht die präzise Einstellung von Rauheit, Benetzbarkeit, optischen und tribologischen Eigenschaften ohne Masken oder Resists.