DC-Magnetronsputtern ist ein physikalisches Gasphasenabscheidungsverfahren zur Herstellung leitfähiger Dünnschichten. Ein Gleichspannungsplasma ionisiert ein Prozessgas (meist Ar); die Ionen sputtern das Target, dessen Atome auf dem Substrat kondensieren. Ein Magnetfeld erhöht die Plasma­dichte und Effizienz. Prozessparameter wie Leistung, Druck, Gaszusammensetzung und Substrattemperatur steuern Mikrostruktur, Spannungszustand, Dichte und Textur der Schicht.