DC-Magnetronsputtern ist ein Vakuumbeschichtungsverfahren, bei dem mittels Gleichstrom und einem Magnetfeld Materialatome aus einer Target-Oberfläche herausgelöst und als dünner Film abgeschieden werden. Die kontrollierte Ionenbeschleunigung und Magnetfeldführung optimieren den Sputterprozess, wodurch gleichmäßige, qualitativ hochwertige Beschichtungen erzielt werden können. Dieses Verfahren findet breite Anwendung in der Mikroelektronik und optischen Beschichtungstechnologie.