Sputterabscheidung ist ein physikalisches Gasphasenabscheidungsverfahren, bei dem Ionen ein Target bombardieren und herausgeschlagene Atome als Dünnschicht auf einem Substrat kondensieren. Prozessparameter wie Gasdruck, Ionenenergie und Substrattemperatur steuern Schichtdicke, Dichte, Textur, Spannungen und Zusammensetzung. In der Werkstoffwissenschaft wird es zur Herstellung funktionaler Schichten für Elektronik, Hartstoffbeschichtungen, Diffusionsbarrieren und Modellwerkstoffe genutzt.