Die Sputterabscheidung ist ein Dünnfilmbeschichtungsverfahren, bei dem Ionen ein Target bombardieren, um Materialatome zu lösen, die sich dann auf einem Substrat ablagern. Dadurch lassen sich Schichtdicken und Zusammensetzungen präzise steuern, was besonders in der Mikroelektronik und Optoelektronik Anwendung findet.