FIB-Anwendungen in der Materialographie nutzen fokussierten Ionenstrahl zum ortsbezogenen Ausprägen, präparieren von TEM-Lamellen, 3D-Serial-Sectioning und Nano-Milling. Kombination mit SEM erlaubt präzise Analyse von Schnittflächen, Defekten und Phasengrenzen bis in den nanoskaligen Bereich.